Impianti vuoto di processo costituiti utilizzando pompe preliminari di tecnologia convenzionale quali anello liquido, palette, pistone rotante, ecc. accoppiabili con eiettori o pompe roots vuoto in modo da migliorare il vuoto limite, aumentando nel contempo la portata volumetrica aspirata.

La scelta delle tecnologie più appropriata viene effettuata dopo un attento esame del processo e delle esigenze tecnico-economiche del cliente.